ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਰਫੇਸ ਟ੍ਰੀਟਮੈਂਟ ਤਕਨਾਲੋਜੀ

1 ਆਕਸੀਕਰਨ ਇਲਾਜ

ਆਕਸੀਕਰਨ ਦਾ ਇਲਾਜ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸੀਕਰਨ, ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ, ਅਤੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਹੈ। Xu Lingyun et al. [1] ਨੇ ਤਿੰਨ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਕਰਕੇ A356 ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੇ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਅਤੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ। ਸਤਹ ਇਲਾਜs: ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ, ਐਨੋਡਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਅਤੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਕਰਨ। SEM ਟੈਕਨਾਲੋਜੀ ਦੁਆਰਾ, ਪਹਿਨਣ ਦੇ ਟੈਸਟ ਅਤੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਟੈਸਟ, ਸਤਹ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ, ਆਕਸਾਈਡ ਪਰਤ ਮੋਟਾਈ, ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੇ ਤਿੰਨ ਦੇ ਬਾਅਦ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਸਤਹ ਇਲਾਜs ਦਾ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਅਤੇ ਵਿਸਥਾਰ ਨਾਲ ਤੁਲਨਾ ਕੀਤੀ ਗਈ। ਨਤੀਜੇ ਦਿਖਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਹੋਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਸਤਹ ਇਲਾਜs, ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਤਹ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਮੋਟਾਈ ਦੀਆਂ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮਾਂ ਬਣਾ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਸਤਹ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਅਤੇ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸੁਧਾਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਵੀ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਡਿਗਰੀਆਂ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰਿਆ ਗਿਆ ਹੈ। ਸਮੁੱਚੀ ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ ਦੇ ਮਾਮਲੇ ਵਿੱਚ, ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਨਾਲੋਂ ਬਿਹਤਰ ਹੈ, ਅਤੇ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਨਾਲੋਂ ਬਿਹਤਰ ਹੈ।

1.1 ਐਨੋਡਾਈਜ਼ਿੰਗ

ਐਨੋਡਾਈਜ਼ਿੰਗ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਵੀ ਕਿਹਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਜ਼ਰੂਰੀ ਤੌਰ 'ਤੇ ਇੱਕ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋ ਕੈਮੀਕਲ ਆਕਸੀਕਰਨ ਇਲਾਜ ਹੈ। ਇਹ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਸੈੱਲ ਵਿੱਚ ਐਨੋਡ ਵਜੋਂ ਵਰਤਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਪਾਵਰ ਚਾਲੂ ਹੋਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਇੱਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ (ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਲ 2 ਓ 3 ਪਰਤ) ਬਣਦੀ ਹੈ। ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਚੰਗੀ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਸਥਿਰ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਅਤੇ ਆਸਾਨ ਤਰੱਕੀ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਇਹ ਆਧੁਨਿਕ ਮੇਰੇ ਦੇਸ਼ ਵਿੱਚ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਲਈ ਸਭ ਤੋਂ ਬੁਨਿਆਦੀ ਅਤੇ ਸਭ ਤੋਂ ਆਮ ਸਤਹ ਇਲਾਜ ਵਿਧੀ ਹੈ। ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੀਆਂ ਬਹੁਤ ਸਾਰੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ: ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੀ ਰੁਕਾਵਟ ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ, ਚੰਗੀ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਚੰਗੀ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਚੰਗੀ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਸਮੱਗਰੀ, ਉੱਚ ਰਸਾਇਣਕ ਸਥਿਰਤਾ, ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਲਈ ਇੱਕ ਬੇਸ ਫਿਲਮ ਵਜੋਂ ਵਰਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ; ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਪਿਨਹੋਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ ਅਤੇ ਇਸਦੀ ਵਰਤੋਂ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਸਜਾਵਟੀ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਲਈ ਵੱਖ ਵੱਖ ਰੰਗਾਈ ਅਤੇ ਰੰਗਾਂ ਵਿੱਚ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ; ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੀ ਥਰਮਲ ਚਾਲਕਤਾ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਹ ਇੱਕ ਵਧੀਆ ਥਰਮਲ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ ਅਤੇ ਗਰਮੀ-ਰੋਧਕ ਸੁਰੱਖਿਆ ਪਰਤ ਹੈ। ਹਾਲਾਂਕਿ, ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦਾ ਮੌਜੂਦਾ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕ੍ਰੋਮੇਟ ਨੂੰ ਆਕਸੀਡੈਂਟ ਵਜੋਂ ਵਰਤਦਾ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਵਾਤਾਵਰਣ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।

ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੇ ਐਨੋਡਾਈਜ਼ਿੰਗ 'ਤੇ ਮੌਜੂਦਾ ਖੋਜ ਵਿੱਚ, ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਅਨੁਕੂਲ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਕੁਝ ਧਾਤੂ ਆਇਨਾਂ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਵੱਲ ਵੀ ਧਿਆਨ ਦਿੱਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, Tian Lianpeng [2] ਨੇ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਨੂੰ ਇੰਜੈਕਟ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਅੱਗੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ-ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਐਨੋਡਾਈਜ਼ਡ ਫਿਲਮ ਪਰਤ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਐਨੋਡਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਕੀਤੀ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਐਨੋਡਾਈਜ਼ਡ ਫਿਲਮ ਦੀ ਸਤਹ ਵਧੇਰੇ ਸਮਤਲ ਅਤੇ ਇਕਸਾਰ ਬਣ ਗਈ। , ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੇ ਐਨੋਡਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕੀਤਾ। ਫਿਲਮ ਦੀ ਘਣਤਾ; ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਐਸਿਡ ਅਤੇ ਖਾਰੀ NaCl ਹੱਲਾਂ ਵਿੱਚ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਐਲੋਏ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸੁਧਾਰ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਪਰ ਇਹ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਲਾਏ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੇ ਅਮੋਰਫਸ ਬਣਤਰ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਨਹੀਂ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਨਿੱਕਲ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੀ ਸਤਹ ਬਣਤਰ ਅਤੇ ਰੂਪ ਵਿਗਿਆਨ ਨੂੰ ਵਧੇਰੇ ਸੰਘਣੀ ਅਤੇ ਇਕਸਾਰ ਬਣਾਉਂਦੀ ਹੈ। ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਲਾਏ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਇੰਜੈਕਟਡ ਨਿਕਲ ਧਾਤੂ ਨਿਕਲ ਅਤੇ ਨਿਕਲ ਆਕਸਾਈਡ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਮੌਜੂਦ ਹੈ।

1.2 ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ

ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਇੱਕ ਪਰਤ ਵਿਧੀ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਸਾਫ਼ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਦੀ ਸਤਹ ਇੱਕ ਸੰਘਣੀ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਕੁਝ ਤਾਪਮਾਨ ਦੀਆਂ ਸਥਿਤੀਆਂ ਵਿੱਚ ਰਸਾਇਣਕ ਕਿਰਿਆ ਦੁਆਰਾ ਇੱਕ ਆਕਸੀਡਾਈਜ਼ਿੰਗ ਘੋਲ ਵਿੱਚ ਆਕਸੀਜਨ ਨਾਲ ਪਰਸਪਰ ਪ੍ਰਭਾਵ ਪਾਉਂਦੀ ਹੈ। ਘੋਲ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਤੀ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ, ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਲਈ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਢੰਗ ਹਨ
ਇਸ ਨੂੰ ਖਾਰੀ ਅਤੇ ਤੇਜ਼ਾਬ ਵਿੱਚ ਵੰਡਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਫਿਲਮ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਤੀ ਦੇ ਅਨੁਸਾਰ, ਇਸਨੂੰ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ, ਫਾਸਫੇਟ ਫਿਲਮ, ਕ੍ਰੋਮੇਟ ਫਿਲਮ ਅਤੇ ਕ੍ਰੋਮਿਕ ਐਸਿਡ-ਫਾਸਫੇਟ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਵੰਡਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦੇ ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੀ ਮੋਟਾਈ ਲਗਭਗ 0.5~ 4μm ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਇਸ ਵਿੱਚ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਨਾਲੋਂ ਖਰਾਬ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਘੱਟ ਖੋਰ ​​ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਹੈ। ਇਹ ਇਕੱਲੇ ਵਰਤਣ ਲਈ ਢੁਕਵਾਂ ਨਹੀਂ ਹੈ, ਪਰ ਇਸ ਵਿਚ ਕੁਝ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਚੰਗੀ ਭੌਤਿਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ. ਪੇਂਟਿੰਗ ਲਈ ਸਮਾਈ ਸਮਰੱਥਾ ਇੱਕ ਵਧੀਆ ਪ੍ਰਾਈਮਰ ਹੈ। ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੇ ਰਸਾਇਣਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਪੇਂਟ, ਸਬਸਟਰੇਟ ਅਤੇ ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਬੰਧਨ ਸ਼ਕਤੀ ਨੂੰ ਬਹੁਤ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ [3] ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਵਧਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।

1.3 ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਵਿਧੀ

ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਡੇਸ਼ਨ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਨੂੰ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਆਕਸੀਕਰਨ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਜਾਂ ਐਨੋਡ ਸਪਾਰਕ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਵਜੋਂ ਵੀ ਜਾਣਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਧਾਤ ਅਤੇ ਇਸਦੇ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਡਿਸਚਾਰਜ ਦੁਆਰਾ ਇੱਕ ਕਿਸਮ ਦੀ ਅੰਦਰੂਨੀ ਵਾਧਾ ਹੈ। ਆਕਸੀਕਰਨ
ਵਸਰਾਵਿਕ ਝਿੱਲੀ ਦੀ ਨਵੀਂ ਤਕਨਾਲੋਜੀ. ਇਸ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੁਆਰਾ ਬਣਾਈ ਗਈ ਸਤਹ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਸਬਸਟਰੇਟ, ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ, ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਉੱਚ ਥਰਮਲ ਸਦਮਾ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ, ਫਿਲਮ ਦੀ ਚੰਗੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਇਨਸੂਲੇਸ਼ਨ, ਅਤੇ ਉੱਚ ਬਰੇਕਡਾਊਨ ਵੋਲਟੇਜ ਦੇ ਨਾਲ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​​​ਬੰਧਨ ਬਲ ਹੈ। ਸਿਰਫ ਇਹ ਹੀ ਨਹੀਂ, ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਬਹੁਤ ਉੱਚ ਊਰਜਾ ਘਣਤਾ ਦੇ ਨਾਲ ਮਾਈਕ੍ਰੋ ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਆਰਕ ਹੀਟਿੰਗ ਦੀ ਉੱਨਤ ਹੀਟਿੰਗ ਵਿਧੀ ਨੂੰ ਅਪਣਾਉਂਦੀ ਹੈ, ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਬਣਤਰ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦਾ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਵਾਤਾਵਰਣ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ ਦਾ ਕਾਰਨ ਨਹੀਂ ਬਣਦੀ ਹੈ। ਇਹ ਇੱਕ ਹੋਨਹਾਰ ਨਵ ਸਮੱਗਰੀ ਸਤਹ ਇਲਾਜ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਹੈ. ਇਹ ਅੰਤਰਰਾਸ਼ਟਰੀ ਸਮੱਗਰੀ ਸਤਹ ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੇ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਖੋਜ ਹੌਟਸਪੌਟ ਬਣ ਰਿਹਾ ਹੈ। Zhang Juguo et al. 

ਵਰਤਿਆ ਮਸ਼ੀਨ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਲੌਏ LY12 ਟੈਸਟ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਤੌਰ 'ਤੇ, ਵਸਰਾਵਿਕ ਪਰਤ 'ਤੇ ਚਾਪ ਵੋਲਟੇਜ, ਮੌਜੂਦਾ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਆਕਸੀਕਰਨ ਸਮੇਂ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵਾਂ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕਰਨ ਲਈ MAO240/750 ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਉਪਕਰਣ, TT260 ਮੋਟਾਈ ਗੇਜ ਅਤੇ AMARY-1000B ਸਕੈਨਿੰਗ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਕੋਪ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਗਈ ਹੈ। ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਪ੍ਰਭਾਵ. Na 2 SiO 3 ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਦੇ ਨਾਲ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਡੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਪ੍ਰਯੋਗਾਂ ਦੀ ਇੱਕ ਲੜੀ ਦੁਆਰਾ, ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਡੇਸ਼ਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਦੌਰਾਨ ਵਸਰਾਵਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੇ ਵਿਕਾਸ ਕਾਨੂੰਨ ਅਤੇ ਵਸਰਾਵਿਕ ਆਕਸਾਈਡ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ 'ਤੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਰਚਨਾ ਅਤੇ ਤਵੱਜੋ ਦਾ ਪ੍ਰਭਾਵ। ਫਿਲਮ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਤਹ ਦਾ ਮਾਈਕ੍ਰੋ-ਆਰਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਇੱਕ ਬਹੁਤ ਹੀ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਸ਼ੁਰੂਆਤੀ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦਾ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਗਠਨ, ਅਤੇ ਸਿਰੇਮਿਕ ਫਿਲਮ ਦਾ ਬਾਅਦ ਵਿੱਚ ਟੁੱਟਣਾ ਸ਼ਾਮਲ ਹੈ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਥਰਮੋਕੈਮਿਸਟਰੀ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮਿਸਟਰੀ, ਰੋਸ਼ਨੀ, ਬਿਜਲੀ ਅਤੇ ਗਰਮੀ ਦੇ ਭੌਤਿਕ ਪ੍ਰਭਾਵ ਸ਼ਾਮਲ ਹਨ। . 

ਇੱਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਖੁਦ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸਮੱਗਰੀ, ਪਾਵਰ ਸਪਲਾਈ ਮਾਪਦੰਡ, ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਪੈਰਾਮੀਟਰਾਂ ਦੁਆਰਾ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਔਨਲਾਈਨ ਨਿਗਰਾਨੀ ਕਰਨਾ ਮੁਸ਼ਕਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਜੋ ਸਿਧਾਂਤਕ ਖੋਜ ਵਿੱਚ ਮੁਸ਼ਕਲਾਂ ਲਿਆਉਂਦਾ ਹੈ। ਇਸ ਲਈ, ਹੁਣ ਤੱਕ, ਅਜੇ ਵੀ ਕੋਈ ਸਿਧਾਂਤਕ ਮਾਡਲ ਨਹੀਂ ਹੈ ਜੋ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਪ੍ਰਯੋਗਾਤਮਕ ਵਰਤਾਰਿਆਂ ਨੂੰ ਤਸੱਲੀਬਖਸ਼ ਢੰਗ ਨਾਲ ਵਿਆਖਿਆ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਸਦੇ ਵਿਧੀ ਬਾਰੇ ਖੋਜ ਨੂੰ ਅਜੇ ਵੀ ਹੋਰ ਖੋਜ ਅਤੇ ਸੁਧਾਰ ਦੀ ਲੋੜ ਹੈ।

2 ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਪਲੇਟਿੰਗ ਅਤੇ ਕੈਮੀਕਲ ਪਲੇਟਿੰਗ

ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਪਲੇਟਿੰਗ ਰਸਾਇਣਕ ਜਾਂ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਕੈਮੀਕਲ ਤਰੀਕਿਆਂ ਦੁਆਰਾ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਹੋਰ ਧਾਤੂ ਪਰਤ ਦੀ ਇੱਕ ਪਰਤ ਜਮ੍ਹਾ ਕਰਨਾ ਹੈ, ਜੋ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਤਹ ਦੀਆਂ ਭੌਤਿਕ ਜਾਂ ਰਸਾਇਣਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਬਦਲ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਸਤ੍ਹਾ

ਸੰਚਾਲਕਤਾ; ਤਾਂਬਾ, ਨਿਕਲ ਜਾਂ ਟੀਨ ਪਲੇਟਿੰਗ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਵੇਲਡਬਿਲਟੀ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ; ਅਤੇ ਹੌਟ-ਡਿਪ ਟੀਨ ਜਾਂ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ-ਟਿਨ ਮਿਸ਼ਰਤ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਲੁਬਰੀਸਿਟੀ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ; ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਤਹ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰੋ ਅਤੇ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਪਲੇਟਿੰਗ ਜਾਂ ਨਿਕਲ ਪਲੇਟਿੰਗ ਦੇ ਨਾਲ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੇ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਪਹਿਨੋ; ਕ੍ਰੋਮ ਜਾਂ ਨਿਕਲ ਪਲੇਟਿੰਗ ਵੀ ਇਸਦੀ ਸਜਾਵਟ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਕੋਟਿੰਗ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟ ਵਿੱਚ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਜ਼ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਪਰ ਪਰਤ ਨੂੰ ਛਿੱਲਣਾ ਆਸਾਨ ਹੈ। ਇਸ ਸਮੱਸਿਆ ਨੂੰ ਹੱਲ ਕਰਨ ਲਈ, ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਨੂੰ ਜ਼ਿੰਕ ਮਿਸ਼ਰਣ ਵਾਲੇ ਜਲਮਈ ਘੋਲ ਵਿੱਚ ਜਮ੍ਹਾ ਅਤੇ ਲੇਪ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਜ਼ਿੰਕ ਇਮਰਸ਼ਨ ਪਰਤ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਇਸਦੇ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਅਤੇ ਇਸ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਦੀਆਂ ਕੋਟਿੰਗਾਂ ਨੂੰ ਜੋੜਨਾ ਹੈ। ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਪੁਲ, ਫੇਂਗ ਸ਼ਾਓਬਿਨ ਐਟ ਅਲ. [7] ਨੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਸਬਸਟਰੇਟ 'ਤੇ ਜ਼ਿੰਕ ਇਮਰਸ਼ਨ ਪਰਤ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਅਤੇ ਵਿਧੀ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ, ਅਤੇ ਜ਼ਿੰਕ ਇਮਰਸ਼ਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੀ ਨਵੀਨਤਮ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਅਤੇ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਪੇਸ਼ ਕੀਤੀ। ਜ਼ਿੰਕ ਵਿੱਚ ਡੁੱਬਣ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਇਲੈਕਟਰੋਪਲੇਟਿੰਗ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਇੱਕ ਪਤਲੀ ਪੋਰਸ ਫਿਲਮ ਬਣਾ ਸਕਦੀ ਹੈ ਅਤੇ ਫਿਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਪਲੇਟਿੰਗ ਵੀ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ।

ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਪਲੇਟਿੰਗ ਇੱਕ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਵਾਲੀ ਤਕਨੀਕ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦੀ ਹੈ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਇੱਕ ਧਾਤ ਦੀ ਪਰਤ ਇੱਕ ਧਾਤ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਇੱਕ ਆਟੋਕੈਟਾਲਿਟਿਕ ਰਸਾਇਣਕ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦੁਆਰਾ ਇੱਕ ਧਾਤੂ ਲੂਣ ਅਤੇ ਇੱਕ ਘਟਾਉਣ ਵਾਲੇ ਏਜੰਟ ਦੇ ਨਾਲ ਮੌਜੂਦ ਘੋਲ ਵਿੱਚ ਜਮ੍ਹਾ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਉਹਨਾਂ ਵਿੱਚੋਂ, ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਧ ਵਰਤੀ ਜਾਂਦੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਨੀ-ਪੀ ਅਲਾਏ ਪਲੇਟਿੰਗ ਹੈ। ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਪਲੇਟਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਮੁਕਾਬਲੇ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਪਲੇਟਿੰਗ ਏ

ਇੱਕ ਬਹੁਤ ਘੱਟ ਪ੍ਰਦੂਸ਼ਣ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ, ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਗਈ ਨੀ-ਪੀ ਮਿਸ਼ਰਤ ਕ੍ਰੋਮੀਅਮ ਪਲੇਟਿੰਗ ਲਈ ਇੱਕ ਵਧੀਆ ਬਦਲ ਹੈ। ਹਾਲਾਂਕਿ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਪਲੇਟਿੰਗ ਲਈ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਉਪਕਰਣ ਹਨ, ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਖਪਤ ਵੱਡੀ ਹੈ, ਕਾਰਜ ਦਾ ਸਮਾਂ ਲੰਬਾ ਹੈ, ਕੰਮ ਕਰਨ ਦੀਆਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਮੁਸ਼ਕਲ ਹਨ, ਅਤੇ ਪਲੇਟਿੰਗ ਭਾਗਾਂ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਦੀ ਗਾਰੰਟੀ ਦੇਣਾ ਮੁਸ਼ਕਲ ਹੈ. ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, ਫੇਂਗ ਲਿਮਿੰਗ ਐਟ ਅਲ. [8] ਨੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਨਿਕਲ-ਫਾਸਫੋਰਸ ਐਲੋਏ ਪਲੇਟਿੰਗ ਲਈ ਇੱਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਸਪੈਸੀਫਿਕੇਸ਼ਨ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਸਿਰਫ 6063 ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਲੌਏ ਦੀ ਰਚਨਾ ਦੇ ਅਧਾਰ ਤੇ ਡੀਗਰੇਸਿੰਗ, ਜ਼ਿੰਕ ਇਮਰਸ਼ਨ, ਅਤੇ ਵਾਟਰ ਵਾਸ਼ਿੰਗ ਵਰਗੇ ਪ੍ਰੀ-ਟਰੀਟਮੈਂਟ ਕਦਮ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦੇ ਹਨ। ਪ੍ਰਯੋਗਾਤਮਕ ਨਤੀਜੇ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਸਧਾਰਨ ਹੈ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਨਿਕਲ ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਚਮਕ, ਮਜ਼ਬੂਤ ​​​​ਬੰਧਨ ਬਲ, ਸਥਿਰ ਰੰਗ, ਸੰਘਣੀ ਪਰਤ, 10% ਅਤੇ 12% ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਫਾਸਫੋਰਸ ਸਮੱਗਰੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਪਲੇਟਿੰਗ ਰਾਜ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ 500HV ਤੋਂ ਵੱਧ ਪਹੁੰਚ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਕਿ ਐਨੋਡ ਨਾਲੋਂ ਬਹੁਤ ਜ਼ਿਆਦਾ ਹੈ। ਆਕਸਾਈਡ ਪਰਤ [8]। ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਨੀ-ਪੀ ਅਲਾਏ ਪਲੇਟਿੰਗ ਤੋਂ ਇਲਾਵਾ, ਹੋਰ ਮਿਸ਼ਰਤ ਵੀ ਹਨ, ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਯਾਂਗ ਏਰਬਿੰਗ [9] ਦੁਆਰਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਨੀ-ਕੋ-ਪੀ ਅਲਾਏ। ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਜ਼ਬਰਦਸਤੀ, ਛੋਟਾ ਰੀਮੈਨੈਂਸ ਅਤੇ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਮੈਗਨੈਟਿਕ ਪਰਿਵਰਤਨ ਹੈ। ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ, ਉੱਚ-ਘਣਤਾ ਵਾਲੀ ਡਿਸਕ ਅਤੇ ਹੋਰ ਖੇਤਰਾਂ ਵਿੱਚ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲੇਸ ਪਲੇਟਿੰਗ ਦੇ ਨਾਲ ਵਰਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ

ਨੀ-ਕੋ-ਪੀ ਵਿਧੀ ਕਿਸੇ ਵੀ ਗੁੰਝਲਦਾਰ ਆਕਾਰ ਦੇ ਸਬਸਟਰੇਟ 'ਤੇ ਇਕਸਾਰ ਮੋਟਾਈ ਅਤੇ ਚੁੰਬਕੀ ਮਿਸ਼ਰਤ ਫਿਲਮ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਸ ਵਿੱਚ ਆਰਥਿਕਤਾ, ਘੱਟ ਊਰਜਾ ਦੀ ਖਪਤ ਅਤੇ ਸੁਵਿਧਾਜਨਕ ਕਾਰਵਾਈ ਦੇ ਫਾਇਦੇ ਹਨ।

3 ਸਤਹ ਪਰਤ

3.1 ਲੇਜ਼ਰ ਕਲੈਡਿੰਗ

ਹਾਲ ਹੀ ਦੇ ਸਾਲਾਂ ਵਿੱਚ, ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਤਹਾਂ 'ਤੇ ਲੇਜ਼ਰ ਕਲੈਡਿੰਗ ਟ੍ਰੀਟਮੈਂਟ ਲਈ ਉੱਚ-ਊਰਜਾ ਬੀਮ ਲੇਜ਼ਰਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਤਹਾਂ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਅਤੇ ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਉਦਾਹਰਨ ਲਈ, ਇੱਕ 5kW CO 2 ਲੇਜ਼ਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ZA111 ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ Ni-WC ਪਲਾਜ਼ਮਾ ਕੋਟਿੰਗ ਨੂੰ ਕਲੈੱਡ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ। ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਲੇਜ਼ਰ ਫਿਊਜ਼ਨ ਪਰਤ ਵਿੱਚ ਉੱਚ ਕਠੋਰਤਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਸਦਾ ਲੁਬਰੀਕੇਸ਼ਨ, ਪਹਿਨਣ ਅਤੇ ਘਸਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਲੇਜ਼ਰ ਟ੍ਰੀਟਮੈਂਟ ਤੋਂ ਬਿਨਾਂ ਸਪਰੇਅ ਕੀਤੀ ਕੋਟਿੰਗ ਨਾਲੋਂ 1.75 ਗੁਣਾ ਅਤੇ ਅਲ-ਸੀ ਅਲਾਏ ਮੈਟਰਿਕਸ ਨਾਲੋਂ 2.83 ਗੁਣਾ ਹੈ। ਝਾਓ ਯੋਂਗ [11] ਨੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਬਸਟਰੇਟਾਂ ਵਿੱਚ CO 2 ਲੇਜ਼ਰ ਵਰਤੇ

ਇਹ Y ਅਤੇ Y-Al ਪਾਊਡਰ ਕੋਟਿੰਗ ਨਾਲ ਲੇਪਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਪਾਊਡਰ ਨੂੰ ਪ੍ਰੀਸੈਟ ਪਾਊਡਰ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਕੋਟ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਲੇਜ਼ਰ ਬਾਥ ਨੂੰ ਆਰਗਨ ਦੁਆਰਾ ਸੁਰੱਖਿਅਤ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ CaF 2, LiF ਅਤੇ MgF 2 ਦੀ ਇੱਕ ਨਿਸ਼ਚਿਤ ਮਾਤਰਾ ਹੈ. ਇੱਕ ਸਲੈਗ ਬਣਾਉਣ ਵਾਲੇ ਏਜੰਟ ਦੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਜੋੜਿਆ ਗਿਆ ਹੈ ਕੁਝ ਖਾਸ ਲੇਜ਼ਰ ਕਲੈਡਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਮਾਪਦੰਡਾਂ ਦੇ ਤਹਿਤ, ਇੱਕ ਮੈਟਾਲਰਜੀਕਲ ਇੰਟਰਫੇਸ ਦੇ ਨਾਲ ਇੱਕ ਸਮਾਨ ਅਤੇ ਨਿਰੰਤਰ ਸੰਘਣੀ ਪਰਤ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਲੂ ਵੇਕਸਿਨ [12] ਨੇ ਲੇਜ਼ਰ ਕਲੈਡਿੰਗ ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਬਸਟਰੇਟ 'ਤੇ ਅਲ-ਸੀ ਪਾਊਡਰ ਕੋਟਿੰਗ, ਅਲ-ਸੀ+ਐਸਆਈਸੀ ਪਾਊਡਰ ਕੋਟਿੰਗ ਅਤੇ ਅਲ-ਸੀ+ਅਲ 2 ਓ 2 ਪਾਊਡਰ ਕੋਟਿੰਗ ਤਿਆਰ ਕਰਨ ਲਈ CO3 ਲੇਜ਼ਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ। , ਅਲ ਕਾਂਸੀ ਪਾਊਡਰ ਕੋਟਿੰਗ. ਝਾਂਗ ਗੀਤ ਐਟ ਅਲ. [13] AA2 6 0 6 ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਵਿੱਚ ਇੱਕ 1 k W ਲਗਾਤਾਰ Nd:YAG ਲੇਜ਼ਰ ਵਰਤਿਆ ਗਿਆ

ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਤਹ SiC ਵਸਰਾਵਿਕ ਪਾਊਡਰ ਦੇ ਨਾਲ ਲੇਜ਼ਰ ਕਲੈਡਿੰਗ ਹੈ, ਅਤੇ ਸਤਹ ਮੈਟਲ ਮੈਟ੍ਰਿਕਸ ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ (MMC) ਸੰਸ਼ੋਧਿਤ ਪਰਤ ਨੂੰ ਲੇਜ਼ਰ ਪਿਘਲਣ ਦੇ ਇਲਾਜ ਦੁਆਰਾ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।

3.2 ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਕੋਟਿੰਗ

ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਐਂਟੀ-ਫ੍ਰਿਕਸ਼ਨ ਅਤੇ ਪਹਿਨਣ-ਰੋਧਕ ਗੁਣਾਂ ਵਾਲੀ ਸਵੈ-ਲੁਬਰੀਕੇਟਿੰਗ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਤ ਕੋਟਿੰਗ ਵਿੱਚ ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ ਵਿੱਚ, ਖਾਸ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਤਿ-ਆਧੁਨਿਕ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੇ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ ਸੰਭਾਵਨਾਵਾਂ ਹਨ। ਇਸ ਲਈ, ਇੱਕ ਪੋਰ ਮੈਟਰਿਕਸ ਬਣਤਰ ਦੇ ਨਾਲ ਪੋਰਸ ਐਲੂਮਿਨਾ ਝਿੱਲੀ ਨੇ ਵੀ ਲੋਕਾਂ ਦਾ ਵੱਧ ਤੋਂ ਵੱਧ ਧਿਆਨ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਹੈ। ਧਿਆਨ ਦਿਓ, ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਕੋਟਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਮੌਜੂਦਾ ਖੋਜ ਦੇ ਹੌਟਸਪੌਟਸ ਵਿੱਚੋਂ ਇੱਕ ਬਣ ਗਈ ਹੈ। Qu Zhijian [14] ਨੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ 6063 ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਵੈ-ਲੁਬਰੀਕੇਟਿੰਗ ਕੋਟਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ। ਮੁੱਖ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ 6063 ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ 'ਤੇ ਸਖ਼ਤ ਐਨੋਡਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਕਰਨਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਫਿਰ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਪੋਰਸ ਵਿੱਚ ਪੀਟੀਐਫਈ ਕਣਾਂ ਨੂੰ ਪੇਸ਼ ਕਰਨ ਲਈ ਗਰਮ ਡੁਬਕੀ ਵਿਧੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨਾ ਹੈ। ਅਤੇ ਸਤਹ, ਵੈਕਿਊਮ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਗਰਮੀ ਦੇ ਇਲਾਜ ਦੇ ਬਾਅਦ, ਇੱਕ ਮਿਸ਼ਰਤ ਪਰਤ ਬਣਾਈ ਜਾਂਦੀ ਹੈ. ਲੀ ਜ਼ੇਨਫਾਂਗ [15] ਨੇ ਆਟੋਮੋਬਾਈਲਜ਼ 'ਤੇ ਲਾਗੂ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਲੌਏ ਵ੍ਹੀਲਜ਼ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਰਾਲ ਪੇਂਟ ਕੋਟਿੰਗ ਅਤੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਪਲੇਟਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਜੋੜਨ ਵਾਲੀ ਇੱਕ ਨਵੀਂ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੀ ਖੋਜ ਕੀਤੀ। CASS ਟੈਸਟ ਦਾ ਸਮਾਂ 66 ਘੰਟੇ ਹੈ, ਛਾਲੇ ਦੀ ਦਰ ≤3% ਹੈ, ਤਾਂਬੇ ਦੇ ਲੀਕੇਜ ਦੀ ਦਰ ≤3% ਹੈ, ਗਤੀਸ਼ੀਲ ਸੰਤੁਲਨ 10 ~ 20g ਦੁਆਰਾ ਘਟਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਰਾਲ ਪੇਂਟ ਅਤੇ ਮੈਟਲ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਸੁੰਦਰ ਦਿੱਖ ਹੈ।

4 ਹੋਰ ਤਰੀਕੇ

4.1 ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਵਿਧੀ

ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਵਿਧੀ ਵੈਕਿਊਮ ਅਵਸਥਾ ਵਿੱਚ ਟੀਚੇ 'ਤੇ ਬੰਬਾਰੀ ਕਰਨ ਲਈ ਉੱਚ-ਊਰਜਾ ਆਇਨ ਬੀਮ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੀ ਹੈ। ਲਗਭਗ ਕਿਸੇ ਵੀ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ. ਇਮਪਲਾਂਟਡ ਆਇਨਾਂ ਨੂੰ ਨਿਰਪੱਖ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਇੱਕ ਅਸੰਤੁਲਿਤ ਸਤਹ ਪਰਤ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਠੋਸ ਘੋਲ ਦੀ ਬਦਲੀ ਸਥਿਤੀ ਜਾਂ ਅੰਤਰ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਛੱਡ ਦਿੱਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ

ਸਤਹ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ, ਪਹਿਨਣ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਅਤੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ. PB11 ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ/ਕਾਰਬਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਦੇ ਬਾਅਦ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ ਸ਼ੁੱਧ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਸੋਧੀ ਹੋਈ ਸਤਹ ਦੀ ਮਾਈਕ੍ਰੋ ਹਾਰਡਨੈੱਸ ਨੂੰ ਬਹੁਤ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਇੰਜੈਕਸ਼ਨ ਦੇ ਨਾਲ ਮਿਲਾ ਕੇ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ ਸਬਸਟਰੇਟ ਦੀ ਕਠੋਰਤਾ ਨੂੰ 180HV ਤੋਂ 281.4HV ਤੱਕ ਵਧਾ ਸਕਦੀ ਹੈ। ਕਾਰਬਨ ਇੰਜੈਕਸ਼ਨ ਦੇ ਨਾਲ ਮਿਲਾ ਕੇ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ 342HV [16] ਤੱਕ ਵਧ ਸਕਦੀ ਹੈ। PB11 ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ/ਕਾਰਬਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਦੇ ਬਾਅਦ ਮੈਗਨੇਟ੍ਰੋਨ ਸਪਟਰਿੰਗ ਸ਼ੁੱਧ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਸੋਧੀ ਹੋਈ ਸਤਹ ਦੀ ਮਾਈਕ੍ਰੋ ਹਾਰਡਨੈੱਸ ਨੂੰ ਬਹੁਤ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। Liao Jiaxuan et al. [17] ਨੇ LY12 ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਲੌਏ ਦੇ ਪਲਾਜ਼ਮਾ-ਆਧਾਰਿਤ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਦੇ ਆਧਾਰ 'ਤੇ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ, ਨਾਈਟ੍ਰੋਜਨ ਅਤੇ ਕਾਰਬਨ ਦਾ ਮਿਸ਼ਰਤ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਕੀਤਾ, ਅਤੇ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸੋਧ ਪ੍ਰਭਾਵ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੇ। ਚੋਂਗਕਿੰਗ ਯੂਨੀਵਰਸਿਟੀ [18] ਦੇ ਝਾਂਗ ਸ਼ੇਂਗਤਾਓ ਅਤੇ ਹੁਆਂਗ ਜ਼ੋਂਗਕਿੰਗ ਨੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਉੱਤੇ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਦਾ ਸੰਚਾਲਨ ਕੀਤਾ। ਨਤੀਜਿਆਂ ਨੇ ਦਿਖਾਇਆ ਕਿ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਟਾਈਟੇਨੀਅਮ ਆਇਨ ਇਮਪਲਾਂਟੇਸ਼ਨ ਕਲੋਰਾਈਡ ਆਇਨ ਖੋਰ ਦੇ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ ਦਾ ਇੱਕ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਤਰੀਕਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਕਲੋਰਾਈਡ ਆਇਨ ਖੋਰ ਦਾ ਵਿਰੋਧ ਕਰਨ ਲਈ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ। NaCl ਅਤੇ ਹੋਰ ਹੱਲਾਂ ਵਿੱਚ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਪੈਸੀਵੇਸ਼ਨ ਸੰਭਾਵੀ ਰੇਂਜ ਨੂੰ ਵਿਸਤ੍ਰਿਤ ਕਰੋ, ਅਤੇ ਕਲੋਰਾਈਡ ਆਇਨਾਂ ਦੁਆਰਾ ਖਰਾਬ ਹੋਏ ਖੋਰ ਪੋਰਸ ਦੀ ਘਣਤਾ ਅਤੇ ਆਕਾਰ ਨੂੰ ਘਟਾਓ।

4.2 ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਪਰਿਵਰਤਨ ਕੋਟਿੰਗ

ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਦੀ ਸਤਹ ਪਰਿਵਰਤਨ ਕੋਟਿੰਗ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਰਸਾਇਣਕ ਇਮਰਸ਼ਨ ਹੈ. ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਐਨੋਡਿਕ ਆਕਸੀਕਰਨ ਲਈ ਲਾਭਦਾਇਕ ਹੈ। ਇਹ ਧਰੁਵੀਕਰਨ ਨੂੰ ਸਵੀਕਾਰ ਕਰਨ ਲਈ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਉਸੇ ਸਮੇਂ ਆਕਸਾਈਡ ਫਿਲਮ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਸੁਧਾਰਦਾ ਹੈ। ਇਸ ਲਈ, ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ

ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਸਤਹ ਦੇ ਇਲਾਜ ਵਿੱਚ ਚੰਗੀ ਵਿਕਾਸ ਸੰਭਾਵਨਾਵਾਂ ਹਨ [19]। ਸ਼ੀ ਟਾਈ ਐਟ ਅਲ. [20] ਨੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਡਿਪੋਜ਼ਿਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਜੰਗਾਲ-ਸਬੂਤ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ LF21 ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਸੀਰੀਅਮ ਲੂਣ ਪਰਿਵਰਤਨ ਫਿਲਮ ਬਣਾਉਣ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕੀਤਾ। ਆਰਥੋਗੋਨਲ ਪ੍ਰਯੋਗ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਫਿਲਮ ਨਿਰਮਾਣ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ 'ਤੇ ਸਬੰਧਤ ਕਾਰਕਾਂ ਦੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ ਅਤੇ ਵਧੀਆ ਤਕਨੀਕੀ ਮਾਪਦੰਡ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੇ ਗਏ ਸਨ। ਨਤੀਜੇ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਜੰਗਾਲ-ਪ੍ਰੂਫ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਦੀ ਐਨੋਡਿਕ ਖੋਰ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਨੂੰ ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਪਰਿਵਰਤਨ ਫਿਲਮ ਦੇ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਜਮ੍ਹਾਂ ਦੇ ਇਲਾਜ ਤੋਂ ਬਾਅਦ ਬਲੌਕ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ, ਇਸਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸੁਧਾਰ ਹੋਇਆ ਹੈ, ਅਤੇ ਹਾਈਡ੍ਰੋਫਿਲਿਸਿਟੀ ਵਿੱਚ ਵੀ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸੁਧਾਰ ਹੋਇਆ ਹੈ। ਜ਼ੂ ਲਿਪਿੰਗ ਐਟ ਅਲ. [21] ਸਕੈਨਿੰਗ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਕੋਪੀ (SEM), ਊਰਜਾ ਸਪੈਕਟ੍ਰੋਸਕੋਪੀ (EMS) ਅਤੇ ਨਮਕ ਸਪਰੇਅ ਟੈਸਟ ਵਿਧੀਆਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਇਸ ਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ 'ਤੇ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਸੀਰੀਅਮ ਲੂਣ ਪਰਿਵਰਤਨ ਕੋਟਿੰਗ ਦੀ ਬਣਤਰ, ਰਚਨਾ ਅਤੇ ਸੰਖੇਪਤਾ ਦਾ ਅਧਿਐਨ ਕਰਨ ਲਈ ਕੀਤੀ। ਪ੍ਰਭਾਵ. ਖੋਜ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ ਫਿਲਮ ਵਿੱਚ ਦੁਰਲੱਭ ਧਰਤੀ ਸੀਰੀਅਮ ਤੱਤ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ ਢੰਗ ਨਾਲ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੇ ਪਿਟਿੰਗ ਖੋਰ ਵਿਹਾਰ ਨੂੰ ਰੋਕਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਇਸਦੇ ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਨੂੰ ਬਹੁਤ ਸੁਧਾਰਦਾ ਹੈ।

ਖੋਰ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਇੱਕ ਨਿਰਣਾਇਕ ਭੂਮਿਕਾ ਅਦਾ ਕਰਦਾ ਹੈ. ਅੱਜਕੱਲ੍ਹ, ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੇ ਵੱਖ-ਵੱਖ ਸਤਹ ਇਲਾਜ ਦੇ ਤਰੀਕੇ ਹਨ, ਅਤੇ ਉਹਨਾਂ ਦੀ ਕਾਰਜਸ਼ੀਲਤਾ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਅਤੇ ਮਜ਼ਬੂਤ ​​ਹੁੰਦੀ ਜਾ ਰਹੀ ਹੈ, ਜੋ ਜੀਵਨ ਵਿੱਚ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੀਆਂ ਲੋੜਾਂ ਨੂੰ ਪੂਰਾ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ, ਡਾਕਟਰੀ ਇਲਾਜ, ਇੰਜੀਨੀਅਰਿੰਗ, ਏਰੋਸਪੇਸ, ਇੰਸਟਰੂਮੈਂਟੇਸ਼ਨ, ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਉਪਕਰਣ, ਭੋਜਨ ਅਤੇ ਹਲਕਾ ਉਦਯੋਗ, ਆਦਿ ਦੀ ਲੋੜ ਹੈ। ਭਵਿੱਖ ਵਿੱਚ, ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਅਤੇ ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੀ ਸਤਹ ਦਾ ਇਲਾਜ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਪ੍ਰਵਾਹ ਵਿੱਚ ਸਧਾਰਨ, ਗੁਣਵੱਤਾ ਵਿੱਚ ਸਥਿਰ, ਵੱਡੇ ਪੈਮਾਨੇ, ਊਰਜਾ-ਬਚਤ, ਅਤੇ ਵਾਤਾਵਰਣ ਲਈ ਅਨੁਕੂਲ ਹੋਵੇਗਾ।

ਦਿਸ਼ਾ ਵਿਕਾਸ. ਇਹ ਉੱਚ ਪਰਿਵਰਤਨ ਦਰ ਦੇ ਨਾਲ ਐਸਟਰ-ਐਮਾਈਡ ਐਕਸਚੇਂਜ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦਾ ਇੱਕ ਬਲਾਕ ਕੋਪੋਲੀਮਰ ਹੈ। ਕੋਰਸ਼ਕ ਐਟ ਅਲ. [11] ਨੇ ਰਿਪੋਰਟ ਕੀਤੀ ਕਿ ਜਦੋਂ 1% PbO 2 ਜਾਂ 2% PbO 2 ਨੂੰ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ ਵਜੋਂ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਅਤੇ 260-3 ਘੰਟਿਆਂ ਲਈ 8 ਡਿਗਰੀ 'ਤੇ ਗਰਮ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਤਾਂ ਪੌਲੀਏਸਟਰ ਅਤੇ ਪੋਲੀਮਾਈਡ ਵਿਚਕਾਰ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਵੀ ਵਾਪਰਦੀ ਹੈ। ਐਸਟਰ-ਐਮਾਈਡ ਐਕਸਚੇਂਜ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦਾ ਮਿਸ਼ਰਣ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਦੀ ਅਨੁਕੂਲਤਾ 'ਤੇ ਇੱਕ ਖਾਸ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। Xie Xiaolin, Li Ruixia, ਆਦਿ [12] ਹੱਲ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ

ਵਿਧੀ, ਸਧਾਰਨ ਮਕੈਨੀਕਲ ਮਿਸ਼ਰਣ (ਪਿਘਲਣ ਦਾ ਤਰੀਕਾ 1) ਅਤੇ PET ਅਤੇ PA66 ਨੂੰ ਮਿਲਾਉਣ ਲਈ ਐਸਟਰ-ਅਮਾਈਡ ਐਕਸਚੇਂਜ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਮਿਸ਼ਰਣ ਵਿਧੀ (ਪਿਘਲਣ ਵਿਧੀ) ਦੀ ਮੌਜੂਦਗੀ, ਯੋਜਨਾਬੱਧ ਤੌਰ 'ਤੇ DSC ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ, ਅਤੇ PET/PA66 ਮਿਸ਼ਰਣ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਦੀ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਲਿੰਗ ਬਾਰੇ ਕੁਝ ਹੱਦ ਤੱਕ ਚਰਚਾ ਕੀਤੀ ਗਈ ਸੀ। ਨਤੀਜੇ ਦਰਸਾਉਂਦੇ ਹਨ ਕਿ PET/PA66 ਮਿਸ਼ਰਣ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਇੱਕ ਥਰਮੋਡਾਇਨਾਮਿਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਅਸੰਗਤ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੀ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਘੋਲ ਮਿਸ਼ਰਣ ਨਾਲੋਂ ਬਿਹਤਰ ਹੈ, ਅਤੇ PET/PA66 ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੁਆਰਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਬਲਾਕ ਕੋਪੋਲੀਮਰ ਦੋ ਪੜਾਅ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਦੇ ਅਨੁਕੂਲ ਹੈ। ਸੁਧਾਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ; PA66 ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਵਾਧੇ ਦੇ ਨਾਲ, ਮਿਸ਼ਰਣ ਦਾ ਪਿਘਲਣ ਬਿੰਦੂ ਘਟ ਗਿਆ ਹੈ। ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਦੁਆਰਾ ਬਣਿਆ PET/PA66 ਬਲਾਕ ਕੋਪੋਲੀਮਰ ਪੀਈਟੀ ਪੜਾਅ ਕ੍ਰਿਸਟਾਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ 'ਤੇ PA66 ਦੇ ਨਿਊਕਲੀਏਸ਼ਨ ਪ੍ਰਭਾਵ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਜਿਸਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਪਿਘਲਣ ਦੇ ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਫ੍ਰੈਂਚ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੀ ਕ੍ਰਿਸਟਲਨਿਟੀ ਪਿਘਲਣ ਵਿਧੀ 1 ਮਿਸ਼ਰਣ ਨਾਲੋਂ ਵੱਧ ਹੁੰਦੀ ਹੈ। ਜ਼ੂ ਹਾਂਗ ਐਟ ਅਲ. [13] ਨਾਈਲੋਨ-6/ਪੀਈਟੀ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ ਦੇ ਅੰਦਰ-ਅੰਦਰ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਨਾਈਲੋਨ-6 ਅਤੇ ਪੀਈਟੀ ਵਿਚਕਾਰ ਐਸਟਰ-ਅਮਾਈਡ ਐਕਸਚੇਂਜ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਲਈ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ ਵਜੋਂ ਪੀ-ਟੋਲਿਊਨੇਸਲਫੋਨਿਕ ਐਸਿਡ (TsOH) ਅਤੇ ਟਾਈਟਨੇਟ ਕਪਲਿੰਗ ਏਜੰਟਾਂ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਗਈ। ਸਕੈਨਿੰਗ ਇਲੈਕਟ੍ਰੌਨ ਮਾਈਕ੍ਰੋਸਕੋਪ ਨਿਰੀਖਣ ਨਤੀਜਿਆਂ ਦਾ ਉਦੇਸ਼ ਇਹ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ ਕਿ ਨਾਈਲੋਨ-6/ਪੀਈਟੀ ਮਿਸ਼ਰਣ ਇੱਕ ਕ੍ਰਿਸਟਲਿਨ ਪੜਾਅ ਵੱਖ ਕਰਨ ਵਾਲੀ ਪ੍ਰਣਾਲੀ ਹੈ ਜਿਸਦੀ ਮਾੜੀ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਹੈ। ਇਨ-ਸੀਟੂ ਬਲਾਕ ਗਠਨ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰਨ ਲਈ ਇੱਕ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ ਦੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਪੀ-ਟੋਲਿਊਨੇਸਲਫੋਨਿਕ ਐਸਿਡ ਅਤੇ ਟਾਇਟਨੇਟ ਕਪਲਿੰਗ ਏਜੰਟ ਨੂੰ ਜੋੜਨਾ ਕੋਪੋਲੀਮਰ ਦੋ ਪੜਾਵਾਂ ਦੇ ਵਿਚਕਾਰ ਇੰਟਰਫੇਸ ਬੰਧਨ ਨੂੰ ਵਧਾਉਂਦਾ ਹੈ, ਫੈਲੇ ਪੜਾਅ ਨੂੰ ਸ਼ੁੱਧ ਅਤੇ ਇਕਸਾਰ ਵੰਡਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੇ ਦਰਾੜ ਦੇ ਪ੍ਰਸਾਰ ਕਾਰਜ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਵਿੱਚ ਮਦਦ ਕਰਦਾ ਹੈ। . ਦੋਵੇਂ ਮਿਸ਼ਰਣ ਦੀ ਅਨੁਕੂਲਤਾ ਨੂੰ ਬਿਹਤਰ ਬਣਾਉਣ ਅਤੇ ਦੋ ਪੜਾਵਾਂ ਦੇ ਇੰਟਰਫੇਸ਼ੀਅਲ ਐਡੀਸ਼ਨ ਨੂੰ ਵਧਾਉਣ ਵਿੱਚ ਮਦਦ ਕਰਦੇ ਹਨ।

2 ਆਉਟਲੁੱਕ

ਹਾਲ ਹੀ ਦੇ ਸਾਲਾਂ ਵਿੱਚ, ਘਰੇਲੂ ਖੋਜਕਰਤਾਵਾਂ ਨੇ ਪੌਲੀਅਮਾਈਡ/ਪੋਲੀਏਸਟਰ ਮਿਸ਼ਰਣਾਂ 'ਤੇ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਖੋਜ ਕਾਰਜ ਕੀਤੇ ਹਨ ਅਤੇ ਬਹੁਤ ਸਾਰੇ ਉਪਯੋਗੀ ਸਿੱਟੇ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੇ ਹਨ, ਇਸ ਖੇਤਰ ਵਿੱਚ ਭਵਿੱਖੀ ਖੋਜ ਲਈ ਇੱਕ ਚੰਗੀ ਨੀਂਹ ਰੱਖੀ ਹੈ। ਵਰਤਮਾਨ ਵਿੱਚ, ਜਿਸ ਚੀਜ਼ ਵੱਲ ਧਿਆਨ ਦਿੱਤਾ ਜਾਣਾ ਚਾਹੀਦਾ ਹੈ ਉਹ ਹੈ ਪੌਲੀਅਮਾਈਡ/ਪੋਲੀਏਸਟਰ ਮਿਸ਼ਰਣ ਸਮੱਗਰੀ ਦੇ ਹੋਰ ਵਿਕਾਸ ਨੂੰ ਉਤਸ਼ਾਹਿਤ ਕਰਨਾ ਅਤੇ ਅਸਲ ਉਤਪਾਦਨ ਅਭਿਆਸ ਲਈ ਪਿਛਲੇ ਸਿੱਟਿਆਂ ਨੂੰ ਲਾਗੂ ਕਰਨਾ। ਦੋਵਾਂ ਨੂੰ ਸੋਧ ਕੇ, ਇੱਕ ਨਵੀਂ ਸਮੱਗਰੀ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤੀ ਜਾਂਦੀ ਹੈ ਜੋ ਦੋ ਹਿੱਸਿਆਂ ਦੇ ਫਾਇਦਿਆਂ ਨੂੰ ਕਾਇਮ ਰੱਖਦੀ ਹੈ। ਇਸ ਵਿੱਚ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਹਨ, ਪਾਣੀ ਦਾ ਪ੍ਰਤੀਰੋਧ ਪੌਲੀਅਮਾਈਡ ਨਾਲੋਂ ਬਿਹਤਰ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਭਾਵ ਕਠੋਰਤਾ ਪੋਲਿਸਟਰ ਨਾਲੋਂ ਬਿਹਤਰ ਹੈ। ਇਹ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ, ਇਲੈਕਟ੍ਰੀਕਲ ਅਤੇ ਆਟੋਮੋਟਿਵ ਉਦਯੋਗਾਂ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨ.

ਇਸ ਲੇਖ ਦਾ ਲਿੰਕ ਅਲਮੀਨੀਅਮ ਮਿਸ਼ਰਤ ਦੀ ਸਰਫੇਸ ਟ੍ਰੀਟਮੈਂਟ ਤਕਨਾਲੋਜੀ

ਮੁੜ ਪ੍ਰਿੰਟ ਸਟੇਟਮੈਂਟ: ਜੇ ਕੋਈ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਨਿਰਦੇਸ਼ ਨਹੀਂ ਹਨ, ਤਾਂ ਇਸ ਸਾਈਟ ਦੇ ਸਾਰੇ ਲੇਖ ਅਸਲ ਹਨ. ਕਿਰਪਾ ਕਰਕੇ ਦੁਬਾਰਾ ਛਾਪਣ ਲਈ ਸਰੋਤ ਦੱਸੋ: https: //www.cncmachiningptj.com/，thanks

ਪੀਟੀਜੇ® ਕਸਟਮ ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਦੀ ਪੂਰੀ ਸ਼੍ਰੇਣੀ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਦਾ ਹੈ ਸੀ ਐਨ ਸੀ ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਚੀਨ Services.ISO 9001: 2015 & AS-9100 ਪ੍ਰਮਾਣਤ. 3, 4 ਅਤੇ 5-ਧੁਰਾ ਤੇਜ਼ ਸ਼ੁੱਧਤਾ CNC ਮਸ਼ੀਨਿੰਗ ਮਿਲਿੰਗ, ਗ੍ਰਾਹਕ ਦੀਆਂ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਵੱਲ ਮੁੜਨਾ, +/- 0.005 ਮਿਲੀਮੀਟਰ ਸਹਿਣਸ਼ੀਲਤਾ ਦੇ ਨਾਲ ਧਾਤ ਅਤੇ ਪਲਾਸਟਿਕ ਦੇ ਮੱਕੀ ਵਾਲੇ ਭਾਗਾਂ ਦੀ ਸਮਰੱਥਾ ਸਮੇਤ ਸੇਵਾਵਾਂ. ਸੈਕੰਡਰੀ ਸੇਵਾਵਾਂ ਵਿੱਚ ਸੀ ਐਨ ਸੀ ਅਤੇ ਰਵਾਇਤੀ ਪੀਹਣਾ, ਡ੍ਰਿਲਿੰਗ,ਕਾਸਟਿੰਗ ਮਰ,ਸ਼ੀਟ ਮੈਟਲ ਅਤੇ ਸਟੈਂਪਿੰਗਪ੍ਰੋਟੋਟਾਈਪਜ਼, ਪੂਰਾ ਉਤਪਾਦਨ ਰਨ, ਤਕਨੀਕੀ ਸਹਾਇਤਾ ਅਤੇ ਪੂਰਾ ਮੁਆਇਨਾ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਨਾ ਆਟੋਮੋਟਿਵ, ਏਅਰਸਪੇਸ, ਮੋਲਡ ਅਤੇ ਫਿਕਸਿੰਗ, ਅਗਵਾਈ ਵਾਲੀ ਰੋਸ਼ਨੀ,ਮੈਡੀਕਲ, ਸਾਈਕਲ ਅਤੇ ਖਪਤਕਾਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕਸ ਉਦਯੋਗ. ਸਮੇਂ ਸਿਰ ਡਿਲਿਵਰੀ. ਆਪਣੇ ਪ੍ਰੋਜੈਕਟ ਦੇ ਬਜਟ ਅਤੇ ਅਨੁਮਾਨਤ ਸਪੁਰਦਗੀ ਸਮੇਂ ਬਾਰੇ ਸਾਨੂੰ ਥੋੜਾ ਦੱਸੋ. ਅਸੀਂ ਤੁਹਾਡੇ ਨਿਸ਼ਾਨੇ ਤੇ ਪਹੁੰਚਣ ਵਿਚ ਤੁਹਾਡੀ ਸਹਾਇਤਾ ਲਈ ਸਭ ਤੋਂ ਵੱਧ ਲਾਗਤ ਵਾਲੀਆਂ ਸੇਵਾਵਾਂ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕਰਨ ਲਈ ਤੁਹਾਡੇ ਨਾਲ ਰਣਨੀਤੀ ਬਣਾਵਾਂਗੇ, ਸਾਡੇ ਨਾਲ ਸੰਪਰਕ ਕਰਨ ਲਈ ਸਵਾਗਤ ਹੈ ( sales@pintejin.com ) ਸਿੱਧਾ ਤੁਹਾਡੇ ਨਵੇਂ ਪ੍ਰੋਜੈਕਟ ਲਈ.